20p化学安定セラミックディスク

セラミックディスクの製造は、次の手順に分かれています

1. 基準材料マッチング

2. ベース材料研削

3. 基材形成

4. 基材乾燥

5. 基材脱水

6. ベースマテリアルの焼成

7. 機械によるベース材料研削

8.耐摩耗層噴霧

9.耐摩耗層乾燥

10.耐摩耗層脱水

11.耐摩耗層焼成

12.耐摩耗層研削および洗浄

13. 設置用穴と出口穴を作る

14. 取付けリングとコンセントを組み立てる

15. 保護塗料および外装包装

16. 水圧と空気圧を試験

17. 倉庫と包装

特長と利点:

1)高い熱伝導率;

2)膨張係数は半導体シリコンウエハと一致することができる。

3)高い絶縁抵抗と電圧抵抗;

4)低誘電率、低誘電損失。

5)高い機械的強度;

6)流れダクト成形プロセスに適しています。

代表的な市場アプリケーション:

1)化合物半導体単結晶成長のためのるつぼとして使用される;

2)高周波鋸デバイス用の基板。

3)高純度の窒化アルミニウムフィルムターゲット。

4)赤外線および電子レンジのための窓材料;

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